差壓變送器的種類很多，比如，力學(xué)變送器常用的就有：電阻應(yīng)變片差壓變送器，壓阻式差壓變送器，電容式差壓變送器，半導(dǎo)體應(yīng)變片差壓變送器等七八種，其中應(yīng)用范圍廣，價(jià)格較低，精準(zhǔn)度卻相對(duì)較高的就是壓阻式差壓變送器。關(guān)于差壓變送器的結(jié)構(gòu)原理，要根據(jù)其具體的類型來分別介紹。變送器主要的可分為壓力和差壓兩種。從壓力和差壓變送器制作的結(jié)構(gòu)上來分，可分為普通型和隔離型兩種，不同的類型有不同的結(jié)構(gòu)原理：普通型變送器：普通型變送器的測量膜盒為一個(gè)，它直接感受被測介質(zhì)的壓力和差壓；隔離型變送器的測量...

平衡流量傳感器是一種革命性的差壓式流量儀表，它的工作原理與其他差壓式流量傳感器一樣，都是基于密封管道中的能量轉(zhuǎn)換原理：在理想流體的情況下管道中的流量與差壓的平方根成正比；用測出差壓值根據(jù)伯努利方程即可計(jì)算出管道中的流量。平衡流量傳感器是一個(gè)多孔的圓盤節(jié)流整流器，安裝在管道的截面上，每個(gè)孔的尺寸和分布是基于特殊的公式和測試數(shù)據(jù)而定制的，該孔也被稱之為函數(shù)孔。當(dāng)流體穿過圓盤的函數(shù)孔時(shí)，流體將被平衡整流，渦流被最小化，形成近似理想流體，通過取壓裝置，可獲得穩(wěn)定的差壓信號(hào)，根據(jù)伯努利...

當(dāng)涂料調(diào)至施工黏度時(shí),如果長時(shí)間放置,顏料會(huì)凝聚沉降,造成、涂膜色澤不一致或光澤下降;對(duì)于快干型涂料,放置過程中溶劑大量揮發(fā)造成黏度升高,導(dǎo)致噴涂霧化不良;對(duì)于雙組分余料,超過使用時(shí)間會(huì)膠化報(bào)廢,為避免這些現(xiàn)象的發(fā)生.待調(diào)稀的涂料量以當(dāng)班用完為宣,最長不超過3天,因此需對(duì)涂料用量進(jìn)行估算,包括計(jì)算法、統(tǒng)計(jì)法和實(shí)測法,以単位面積消耗量表示.(1)計(jì)算法求涂料需要量根據(jù).各層涂膜的厚度、密度、涂料不揮發(fā)分和涂料利用率等參數(shù),可根據(jù)式(8-1)求得各層涂膜的涂料單位面積消耗量。qc...

固化膜硬度是評(píng)價(jià)漆膜質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo)，是考察卷材料涂層能否通過加工成型的重要指標(biāo)。檢測gu話涂層硬度的方法有擺桿硬度、鉛筆硬度、邵氏硬度等。由于鉛筆硬度簡單易操作，因此在彩涂板行業(yè)應(yīng)用較為廣泛。涂層硬度通常與涂料配方組分和gu話條件有關(guān)。另涂層厚度對(duì)gu話膜硬度也有較明顯影響。涂層較薄時(shí)，溫度可較均勻地被吸收，固化均勻有效，膜層總體硬度較高；厚度涂層的吸熱效果存在梯度效應(yīng)，固化不均勻，總體硬度相對(duì)較低。彩鋼板的涂層硬度試驗(yàn)，通常是采用鉛筆劃痕硬度計(jì)來測定，即使用從6H-6B范圍...

光澤是物體的外觀光學(xué)特性。表面平滑材料收到可見光的照射都會(huì)產(chǎn)生有方向性的向另一方向的反射現(xiàn)象，這稱為鏡面反射，其結(jié)果使材料表面帶有光澤即為鏡面光澤，其反射能力的大小稱為鏡面光澤度。彩涂板要求進(jìn)行鏡面光澤度測定除了保證涂層的外觀外還為了保證涂層的耐效性。影響彩涂板的光澤主要來自三個(gè)方面：基板、涂料和施工工藝。作為彩涂板工藝的全過程，基板屬于客觀條件，涂層有無光澤，雖然同基板的平滑度有關(guān)，即基板為冷軋板的光澤度比鍍鋅板要好高一些，這是因?yàn)槠交谋砻娓菀资雇繉颖旧硇纬闪藢?duì)光的鏡面...

彩涂板的色差測定原理是通過測定參照樣和試樣的光譜三刺激值,即可定量測定出試樣與參照樣的顏色差異,色差儀通常采用的幾何結(jié)構(gòu)分為定向型和積分球型兩種.其中定向型幾何結(jié)構(gòu)分為45°/0°和0°/45°兩種.45°/0°指的是光在45°方向照射樣品檢測器在垂直方向接受反射光,而0°/45°指的是光在垂直方同照射樣品在45°方向接受反射光。這兩種結(jié)構(gòu)的儀器都是wan全不包括鏡面反射光的,它測得的數(shù)據(jù)與人眼觀察一致,另外這種儀器只能測量不透明樣品的顏色;積分球型幾何結(jié)構(gòu)分為d/8°和8°...

1）用某種離子在固定電壓下去轟擊不同的靶材，s會(huì)隨元素周期表的族而變化。反之，靶材種類確定，用不同種類的離子去轟擊靶材，s也隨元素周期表的族作周期性變化。2）S隨入射離子的能量（即加速電壓V）的增加而單調(diào)地增加。不過，V有臨界值（一般為10V）。在10V以下時(shí)，S為零。當(dāng)電壓≥10KV時(shí)，由于入射離子會(huì)打入靶中，S反而減少了。3）對(duì)于單晶靶，s的大小隨晶面的方向而變化。因此，被濺射的原子飛出的方向是不遵守余弦定律的，而有沿著晶體的最稠密面的傾向。4）對(duì)于多晶靶，離子從斜的方向...

蒸發(fā)源加熱主要有2種：電阻加熱法、電子束加熱法。電阻加熱法要求：蒸發(fā)源材料要選擇熔點(diǎn)高，即使在高溫下也不熔化的低蒸汽壓物質(zhì)。可用W、Ta或Mo做成網(wǎng)狀或直板形狀，把蒸發(fā)源物質(zhì)放在其上進(jìn)行加熱。蒸發(fā)材料的蒸汽壓要比蒸發(fā)物質(zhì)的蒸汽壓高得多，而且更不希望其與蒸發(fā)源形成合金，降低蒸發(fā)源的熔點(diǎn)。如，F(xiàn)e，Al，Ge和Ni是容易生成合金的代表性材料。Au不易生成合金，只是容易和Ta生成合金。此外，也可選擇間接加熱法，即將蒸發(fā)源物質(zhì)放入一個(gè)帶有小孔的耐熱性容器內(nèi)，從外面對(duì)容器加熱使其蒸發(fā)。...